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pvd涂層加工工藝納米技術(shù)處理溫度低

隨之近幾年來粉末制作公司的磨粒WC粉末狀制造技術(shù)及硬質(zhì)合金刀具生產(chǎn)商與鋁合金生產(chǎn)有關(guān)的微?;夹g(shù)的飛速發(fā)展,粒徑為0.4μm左右的WC超細(xì)顆粒硬質(zhì)合金也已投入市場。


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PVD是物理學(xué)氣相沉積法(Physical Vapor Deposition)的統(tǒng)稱,它與CVD法的氣體在高溫下造成化學(xué)反應(yīng)產(chǎn)生表面層薄膜不一樣,是選用電能等物理方式使金屬蒸發(fā)物造成離子做好涂層。與CVD對(duì)比,PVD涂層的特性如下:可在低溫下進(jìn)行涂層,硬質(zhì)合金基材損傷較小,因此可在涂層時(shí)對(duì)基材進(jìn)行挑選;CVD涂層有張力,因此在耐缺損這方面有不利之處,與之對(duì)比,PVD涂層造成壓縮力,有益于發(fā)展耐缺損特性,可用以具備鋒利切削刃的刀具制作。


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真空PVD涂層加工技術(shù)起步時(shí)間段不長,國際上在上世紀(jì)六七十年代才冒出將CVD(化學(xué)氣相沉積)技術(shù)應(yīng)用于硬質(zhì)合金刀具上。鑒于該技術(shù)需要高溫下進(jìn)行(工藝氣溫高過1000℃),涂層類型單一化,局限性挺大,為此,其發(fā)展趨勢(shì)前期難免不盡如人意。

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