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真空度對(duì)真空鍍膜的影響有哪些?

真空鍍膜時(shí)若是真空度低的話鍍好的膜層會(huì)被氧化,鍍出來的產(chǎn)品會(huì)發(fā)黑,時(shí)間一長(zhǎng)還有可能會(huì)發(fā)黃。若是真空鍍膜時(shí)真空度高的話鍍出來的膜的質(zhì)量比較好。


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在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射,使其在被涂覆的物體(稱基板、基片或基體)上凝固并沉積的方法即為真空鍍膜。真空鍍膜技術(shù)都需要有一個(gè)蒸發(fā)源或靶子,以便把蒸發(fā)制膜的材料轉(zhuǎn)化成氣體。

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