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致力于高端涂層技術(shù)的研究和推廣
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真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個重要方面。它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學方法，吸收電子束、分子束、離子束、等離子體束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學研究和實際生產(chǎn)提供薄膜制備的新技術(shù)。簡而言之，在真空中蒸發(fā)或濺射金屬、合金或化合物以固化并沉積在涂覆物體(稱為基材、基材或基底)上的方法稱為真空涂覆。真空鍍膜技術(shù)一般分為兩類，即物理氣相沉積(PVD)技術(shù)和化學氣相沉積(化學氣相沉積)技術(shù)。
眾所周知，只要在某些材料的表面鍍上一層薄膜，這些材料就可以具有許多新的良好的物理和化學性質(zhì)。20世紀70年代，電鍍和化學鍍是物體表面涂層的主要方法。在前者中，電解質(zhì)通過通電而被電解，并且被電解的離子被鍍在用作另一電極的基板的表面上。因此，襯底必須是良導體，并且膜的厚度難以控制。后者是一種化學還原方法。膜材料必須制成溶液，并能迅速參與還原反應(yīng)。這種涂覆方法不僅膜的結(jié)合強度差，而且涂層既不均勻均，也不容易控制。同時，會產(chǎn)生大量的廢液，造成嚴重的污染。因此，這兩種被稱為濕法涂布的涂布工藝受到極大的限制。
與濕法鍍膜技術(shù)相比，真空鍍膜技術(shù)具有以下優(yōu)點：
1、膜和基底選擇廣泛，膜厚度可以控制，以制備具有各種功能的功能膜。
2、該薄膜在真空下制備，環(huán)境清潔，不易污染，因此可以獲得致密性好、純度高、涂層均勻的薄膜均。
3、薄膜與基材的結(jié)合強度好，薄膜牢固。
4、干涂層不會產(chǎn)生廢液或環(huán)境污染。
真空鍍膜技術(shù)主要包括真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍、真空束沉積、化學氣相沉積等方法。
上述所講解的就是真空鍍膜能夠增強物體表面的耐磨性能的原因，希望看完能夠?qū)δ兴鶐椭?，如果您想要了解更多關(guān)于真空鍍膜的相關(guān)信息的話，歡迎在線咨詢客服或是撥打本公司服務(wù)熱線（網(wǎng)站右上角）進行咨詢，我們將竭誠為您提供優(yōu)質(zhì)的服務(wù)！
真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個重要方面。它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學方法，吸收電子束、分子束、離子束、等離子體束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學研究和實際生產(chǎn)提供薄膜制備的新技術(shù)。簡而言之，在真空中蒸發(fā)或濺射金屬、合金或化合物以固化并沉積在涂覆物體(稱為基材、基材或基底)上的方法稱為真空涂覆。真空鍍膜技術(shù)一般分為兩類，即物理氣相沉積(PVD)技術(shù)和化學氣相沉積(化學氣相沉積)技術(shù)。
眾所周知，只要在某些材料的表面鍍上一層薄膜，這些材料就可以具有許多新的良好的物理和化學性質(zhì)。20世紀70年代，電鍍和化學鍍是物體表面涂層的主要方法。在前者中，電解質(zhì)通過通電而被電解，并且被電解的離子被鍍在用作另一電極的基板的表面上。因此，襯底必須是良導體，并且膜的厚度難以控制。后者是一種化學還原方法。膜材料必須制成溶液，并能迅速參與還原反應(yīng)。這種涂覆方法不僅膜的結(jié)合強度差，而且涂層既不均勻均，也不容易控制。同時，會產(chǎn)生大量的廢液，造成嚴重的污染。因此，這兩種被稱為濕法涂布的涂布工藝受到極大的限制。
與濕法鍍膜技術(shù)相比，真空鍍膜技術(shù)具有以下優(yōu)點：
1、膜和基底選擇廣泛，膜厚度可以控制，以制備具有各種功能的功能膜。
2、該薄膜在真空下制備，環(huán)境清潔，不易污染，因此可以獲得致密性好、純度高、涂層均勻的薄膜均。
3、薄膜與基材的結(jié)合強度好，薄膜牢固。
4、干涂層不會產(chǎn)生廢液或環(huán)境污染。
真空鍍膜技術(shù)主要包括真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍、真空束沉積、化學氣相沉積等方法。
上述所講解的就是真空鍍膜能夠增強物體表面的耐磨性能的原因，希望看完能夠?qū)δ兴鶐椭?，如果您想要了解更多關(guān)于真空鍍膜的相關(guān)信息的話，歡迎在線咨詢客服或是撥打本公司服務(wù)熱線（網(wǎng)站右上角）進行咨詢，我們將竭誠為您提供優(yōu)質(zhì)的服務(wù)！