PVD涂層主要包括多弧電鍍和磁控濺射電鍍。該多弧電鍍?cè)O(shè)備結(jié)構(gòu)簡單,易于操作。其離子蒸發(fā)源可由電焊機(jī)供電,引弧過程也類似于電焊。具體地說,在一定的工藝壓力下,引弧針與蒸發(fā)離子源短暫接觸,并斷開與放電氣體的連接。由于多弧電鍍的原因主要是通過連續(xù)移動(dòng)弧斑在蒸發(fā)源表面連續(xù)形成熔池,使金屬蒸發(fā)沉積在襯底上得到..
2020-06-20真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面。它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ),利用物理或化學(xué)方法,吸收電子束、分子束、離子束、等離子體束、射頻和磁控等一系列新技術(shù),為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的新技術(shù)。簡而言之,在真空中蒸發(fā)或?yàn)R射金屬、合金或化合物以固化并沉積在涂覆物體(稱為基材、基材或基底)上的方法稱為真空涂覆..
2020-06-13DLC涂層可應(yīng)用于鉆頭和銑刀,尤其是金屬摻雜的DLC涂層,它不僅具有高硬度,而且具有低摩擦系數(shù)和抗有色金屬粘附性。荷蘭豪澤公司制備的金屬摻雜類金剛石薄膜涂層用于切割高強(qiáng)度鋁合金時(shí),可以降低表面的所謂BUE效應(yīng)。結(jié)果,延長了刀具的使用壽命,并且切割后工件材料的表面是光滑的。特別是在干切削和深孔加工中..
2020-06-04PVD涂層是指在真空條件下使用低電壓、大電流電弧放電技術(shù),使用氣體放電來蒸發(fā)目標(biāo)并電離蒸發(fā)的物質(zhì)和氣體,以及使用電場(chǎng)加速將蒸發(fā)的物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。PVD涂層是一個(gè)復(fù)雜的過程,特別是應(yīng)用于工具和模具的PVD涂層要求涂層的所有方面都有很高的性能。在涂布過程中,許多因素會(huì)影響涂層的性能?! ?..
2020-05-29眾所周知,只要在某些材料的表面鍍上一層薄膜,這些經(jīng)過材料的表面真空鍍膜就可以具有許多新的良好的物理和化學(xué)性質(zhì)。20世紀(jì)70年代,電鍍和化學(xué)鍍是物體表面涂層的主要方法。在前者中,電解質(zhì)通過通電而被電解,并且被電解的離子被鍍?cè)谟米髁硪浑姌O的基板的表面上。因此,襯底必須是良導(dǎo)體,并且膜的厚度難以控制?! ?.
2020-05-22不同沉積方法制備的DLC涂層的硬度和彈性模量差異很大。用磁過濾陰極電弧法可以制備硬度達(dá)到或超過金剛石的類金剛石薄膜。陰極電弧法制備的DLC涂層的最高硬度可達(dá)50GPa以上,而離子源結(jié)合非平衡磁控濺射法制備的DLC涂層的硬度可達(dá)21GPa。膜層中的成分對(duì)膜層的硬度有一定的影響。硅和氮的加入可以提高類金..
2020-05-16眾所周知,只要在某些材料的表面鍍上一層薄膜,這些材料就可以具有許多新的良好的物理和化學(xué)性質(zhì)。20世紀(jì)70年代,電鍍和化學(xué)鍍是物體表面涂層的主要方法。在前者中,電解質(zhì)通過通電而被電解,并且被電解的離子被鍍?cè)谟米髁硪浑姌O的基板的表面上。因此,襯底必須是良導(dǎo)體,并且膜的厚度難以控制。后者是一種化學(xué)還原方法..
2020-05-09對(duì)裝飾物品進(jìn)行PVD涂層的目的主要是為了改善工件的外觀和裝飾性能及顏色,同時(shí)使工件更加耐磨、耐腐蝕,延長其使用壽命。主要應(yīng)用于五金行業(yè)的各個(gè)領(lǐng)域,如門窗五金、鎖具、衛(wèi)浴五金等行業(yè)。工具上PVD涂層的目的主要是提高工件的表面硬度和耐磨性,降低表面摩擦系數(shù),提高工件的使用壽命。這方面主要應(yīng)用于各種切削工..
2020-04-25DLC涂層是一種非晶薄膜。DLC涂層由于其高硬度、高彈性模量、低摩擦系數(shù)、耐磨性和良好的真空摩擦學(xué)性能,非常適合作為耐磨涂層,引起了摩擦學(xué)界的關(guān)注。不同沉積方法制備的DLC涂層的硬度和彈性模量差異很大。用磁過濾陰極電弧法可以制備硬度達(dá)到或超過金剛石的DLC涂層。陰極電弧法制備的DLC涂層的最高硬度可..
2020-04-18